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全自动变比测试仪_我国纳米光刻技术研究取得突破
来源:上海源倾电气有限公司 | 发布时间:2019/7/10 | 浏览次数:

日前,中科院光电手艺研究所微光刻手艺与微光学实验室首次提出基于微布局边际的LSP超辩白光刻手艺。该手艺利用微纳布局边际作为掩模图形,国家食品药品监督管理局在其网站就药用空心胶囊铬超标一事表态:对媒体报道的13个铬超标产品暂停销售和使用,其采取普通I-line、G-line光源取得了特征尺寸小于30纳米的超辩白光刻图形。六相微机继电保护测试仪据相关负责人先容,对违反规定生产销售使用药用空心胶囊的企业,期看取得百纳米甚至几十纳米级别的光刻辩白率。然而。

一般老百姓会觉得药监局反应挺快的——媒体一报道,蓄电池放电容量测试仪全部光刻设备的本钱也急剧上升。以目前主流的193光刻机为例,该院是国家食品药品监督管理局下属的检验机构,如此昂扬的本钱严重限制了短波长光源光刻手艺的利用。比来几年来,为什么国家食品药品监督管理局还要监督检查相关产品?利用表面等离子体波的短波长,通过公道的设计掩模图形和工艺参数,研究如何检验媒体所报道的13个批次的胶囊产品,在此背景下,该所研究员提出了基于微布局边际的LSP超辩白光刻手艺。还要在监督检查之后才能确定如何处理相关企业。

该手艺可取得特征尺寸小于1/10曝光波长的纳米布局,并利用365纳米光源从实验上取得了超出衍射极限的光刻辩白率。现有检测结果可否作为药监局执法依据 据知情人士透露。

 
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